半导体掩模版厂商龙图光罩：勇于突破芯片“卡脖子”难题

时间: 2024-02-14 20:41:10 |   作者: 电子模具

  掩模版,又称光罩,英文叫Mask,通俗的来说它就像照片的底片或者印钞票的母版,芯片设计师们设计好电路图,光罩厂把这些电路图刻在光罩上,晶圆厂通过光罩的内容在晶圆上通过光刻等流程,大规模复制产出芯片,光刻的过程就是把光罩上的图案转移到晶圆上的过程,并且由于电路图一般很复杂,一个完整的电路图需要十几到几十层光罩来回光刻,才能把电路图完全转移过去,由此可见光罩的重要性,稍有差池则全盘皆输,掩模版也是仅次于硅片和电子特气的第三大半导体材料。

  深圳市龙图光罩股份有限公司(以下简称龙图光罩)就是一家主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售的企业,也是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。目前,公司正在排队科创板IPO,将于12月15日上会

  资料显示,龙图光罩是工信部认定的专精特新“小巨人”企业,此外还获得广东省功率半导体芯片掩模版工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、高新技术企业认定等。截至2023年6月30日,企业具有发明专利15项,实用新型专利26项,计算机软件著作权31项。报告期内(2020年至2023年6月),公司实现营业收入分别为5,269.26万元、11,369.39万元、16,154.16万元、10,316.00万元,归母净利润分别为1,447.87万元、4,116.42万元、6,448.21万元、4,019.61万元,公司业绩增长显著。

  截至2023年9月30日,龙图光罩资产总额为59,874.00万元,归属于母公司股东的所有者的权利利益为53,118.54万元;2023年1-9月公司营业收入为16,132.12万元,扣除非经常性损益后归属于母公司股东的净利润为6,109.52万元。公司预计2023年度营业收入约21,000.00万元至23,000.00万元左右,与上年同期增长约30.00%至42.38%左右;预计2023年度归属于母公司股东的净利润约8,200.00万元至8,500.00万元左右,与上年同期增长约27.17%至31.82%左右。

  掩模版一般是和光刻胶配套使用的,因此从下游应用上来看,它俩分类一样,都是分为半导体掩膜版、平板显示、其他这三大类,对精度的要求和技术难度依次递减,从市场容量上讲,半导体掩模版占了约60%,平板显示掩模版占了28%,其他类包括PCB及触控等占了约12%。

  掩模版是晶圆厂生产晶圆必备核心材料,在28nm及以下的先进制程方面,制造工艺复杂且难度大。加之自身实力不足,国内独立的第三方掩模版企业大都集中在平板显示掩模版领域。目前走到上市阶段的只有3家,清溢光电、路维光电以及龙图光罩,其中前两家主要是做中大尺寸平板显示掩模版,以半导体为主营业务的只有龙图光罩一家;并且这三家中,攻克到130nm的只有龙图光罩,清益和路维还在150nm徘徊。相比之下,国际前五名掩模版大厂都已经到了28nm。

  2010年4月,龙图光罩前身深圳市龙图光电有限公司成立。成立初期,国内半导体掩模版企业较为稀缺,公司结合对下游市场需求变动的判断,制定了半导体掩模版的发展趋势。2010年至2018年期间,公司掩模版产品最小线μm,对应的半导体工艺节点0.5μm,关键指标CD精度、套刻精度能轻松实现±0.15μm。

  2018年之后,龙图光罩明确了以特色工艺半导体掩模版为发展重心的技术攻关和产品研制战略,聚焦国内特色工艺半导体领域配套需求,持续加大设备投入、研发投入和人才投入,产品工艺、精度水平实现再次突破,达到了国内领先水平,营业收入实现大幅度增长。2018年至2022年,公司掩模版产品最小线μm,对应的半导体工艺节点达到了0.13μm,关键指标CD精度实现了±20nm、套刻精度实现了±20nm的突破。

  2022年之后,公司制定了“深耕特色工艺,突破高端制程”的发展的策略,在保持公司特色工艺半导体掩模版领域一马当先的优势的同时,工艺水平将不断向高端制程推进。此次科创板IPO,公司募投项目之一高端半导体芯片掩模版制造基地正在建设,建成后将实现130-65nm半导体工艺节点掩模版量产,下游应用在模拟芯片、MCU、DSP、CIS芯片等。

  未来三至五年,龙图光罩将利用现有的优势和产品竞争力,扩大国内特色工艺半导体市场掩模版的市场占有率,同时大力推进高端半导体芯片掩模版项目建设,实现高端半导体掩模版技术突破,不断的提高制程节点,逐步突破高端制程,成为国内半导体掩模版领域的有突出贡献的公司,从源头尽快突破芯片“卡脖子”难题。返回搜狐，查看更加多